Filtr Polaryzacyjny CPL NANO-X

Ultra-Low Reflection

Rozmiar filtra: 43 mm

FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI

DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW

FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI

Bardzo niski współczynnik odbicia 0,1%, eliminuje 99,9% spolaryzowanego światła i ma bardzo wysoką przepuszczalność
Nowa technologia powlekania tytanem sprawnie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazu
Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła
28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych
Super niski profil typu SLIM (jedyne 5.3 mm grubości)
Bardzo solidna i wytrzymała obudowa ze stopu aluminiowo-magnezowego
W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra

Produkt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych.

MODEL: KF01.2471 / 43 mm Nano X CPL Ultra Low Reflection

Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry polaryzacyjne CPL. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.

Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.

Filtr polaryzacyjny to idealny dodatek szczególnie dla fotografii krajobrazowej.

Filtr polaryzacyjny zwiększa kontrast zdjęć i nasycenie kolorów.

Filtr CPL eliminuje odblaski i odbicia nie tylko z powierzchni szklanych, ale też metalicznych. Dzięki temu istnieje możliwość wykonywania np. zdjęć przez szybę.

Filtr polaryzacyjny CPL przepuszcza jedynie światło o polaryzacji liniowej w wybranym kierunku. W wyniku tego filtr częściowo pochłania światło rozproszone w atmosferze, co widać szczególnie w przypadku fotografowania nieba, które staje się ciemniejsze, przy jednoczesnym zachowaniu białego koloru chmur.

Filtr CPL umożliwia również znaczną poprawę nasycenia barw powierzchni nieprzezroczystych (np. zieleni roślin) oraz redukcję odbić od powierzchni przezroczystych (np. tafli wody lub szyby).

Cechy filtru K&F CPL NANO-X PRO MRC:

Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%
Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć.
Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń.
Doskonały stosunek jakości do ceny.

Filtr dedykowany jest do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 43 mm.

Filtr pasuje m.in do następujących aparatów:

Canon

EF-M 22MM 2.0 STM
RF 50mm F1.8 STM
EF-M 32 mm f/1.4 STM
EF-M 28mm f/3.5 Macro IS STM

Fujifilm

XF 35 mm f/2.0 R WR

SPECYFIKACJA FILTRA:

Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego
Dwustronnie powlekane 28-warstwową powłoką (NANO-X) szkło optyczne
Ochronna powłoka hydrofobowa, anty-olejowa, przeciwpyłowa, przeciw-zabrudzeniowa, odporna na zarysowania.
Nie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralny
Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 5.3 mm
Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS
Solidne pudełko ochronne na filtr w zestawie

Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń
Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach

W zestawie:

1x filtr
1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra

Przykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT CPL NANO-X

Uwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.