Filtr ultrafioletowy UV NANO-X MRC
Ultra-Low Reflection
Rozmiar filtra: 40.5 mm
FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI
DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW
FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI
- Bardzo niski współczynnik odbicia 0,1%, eliminuje 99,9% spolaryzowanego światła i ma bardzo wysoką przepuszczalność
- Nowa technologia powlekania tytanem (powłoka tytanowa) sprawnie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazu
- Filtr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazu
- Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła
- 28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych
- Super niski profil typu SLIM (jedyne 3,3mm grubości)
- Pierścień wykonany z aluminium czernionego galwanicznie
- W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra
Produkt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych
MODEL: KF01.2457 / 40.5 mm NANO X UV Ultra Low Reflection
Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.
Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.
Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.
Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.
Cechy filtru K&F UV NANO-X MRC:
- Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%
- Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć.
- Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń.
- Doskonały stosunek jakości do ceny.
Filtr UV NANO-X MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 40.5 mm.
Filtr pasuje m.in do następujących aparatów:
- Nikon 1: V1 / J1 / J2 / V2 / S1 / S2 / AW1 / V3 / J3 / J4 / V4 z obiektywem NIKKOR 10?30 mm 1:3,5-5,6 VR lub NIKKOR 11-27,5mm 1:3.5-5.6
- Pentax: Q / Q1 / Q10 / Q7 / Q-S1 z obiektywem SMC 1:1.9 8.5mm AL [IF] lub SMC 1:2.8-4.5 5-15mm ED AF [IL]
- Olympus PEN: E-P1 / E-P2 / E-P3 / E-PL1 / E-PL2 / E-PL3 z obiektywem 14-42mm 1:3.5-5.6 L ED (fi 40,5mm)
- Samsung: NX300 / NX30 / NX3000 / NX10 / NX20 / NX1000 / NX11 / NX1100 / NX100 / NX2000 z obiektywem
- 1: 3.5-5.6 20-50mm II ED
- Sony A5100 / A6000 / A5000 / NEX-5R / NEX-5T / NEX-3N / NEX-6 z obiektywem E 3.5-5.6/PZ 16-50 OSS
SPECYFIKACJA FILTRA:
- Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego
- NANO-X MRC - Nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne
- Nie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralny
- Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 3,3mm
- Tytanowa powłoka
- Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS
- Solidne pudełko ochronne na filtr w zestawie
- Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach
- Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń
W zestawie:
- 1x filtr
- 1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra
Przykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC
Uwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.