Filtr ultrafioletowy UV NANO-X MRC

Ultra-Low Reflection

Rozmiar filtra: 49 mm

FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI

DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW

FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI

Bardzo niski współczynnik odbicia 0,1%, eliminuje 99,9% spolaryzowanego światła i ma bardzo wysoką przepuszczalność
Nowa technologia powlekania tytanem (powłoka tytanowa) sprawnie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazu
Filtr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazu
Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła
28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych
Super niski profil typu SLIM (jedyne 3,3mm grubości)
Pierścień wykonany z aluminium czernionego galwanicznie
W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra

Produkt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych

MODEL: KF01.2460 / 49 mm NANO X UV Ultra Low Reflection

Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.

Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.

Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.

Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.

Cechy filtru K&F UV NANO-X MRC:

Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%
Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć.
Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń.
Doskonały stosunek jakości do ceny.

Filtr UV NANO-X MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 49 mm.

Filtr dedykowany jest m.in. do następujących aparatów:

Aparatów Sony:

NEX-3
NEX-3C
NEX-3N
NEX-5
NEX-5C
NEX-5N
NEX-5R
NEX-5T
NEX-6
NEX-7
NEX-C3
NEX-F3
NEX-VG10
A3000
A3500
A5000
A5100
A6000
A6100
A6300
A6400
A6500
A6600

z obiektywami E 3.5-5.6/18-55 OSS lub E 2.8/16

Konica Minolta A1 / A2 / A200

Obiektywów

Sony

SEL-35F18
SAL-28F28
SEL-24F18Z
SEL-16F28
SEL-20F28
SAL-30M28
SEL-55210
SEL-1855
SAL-50F18
SEL-50F18
SEL-30M35

Pentax

SMC Pentax-DA 50-200mm F4-5.6 ED WR
SMC Pentax-D FA 50mm F2.8 Macro
SMC Pentax-D FA 100mm F2.8 Macro
SMC Pentax-D FA 100mm F2.8 Macro WR
SMC Pentax-DA 15mm F4 ED AL Limited
SMC Pentax-DA 35mm F2.4 AL
SMC Pentax-DA 35mm F2.8 Limited Macro
SMC Pentax-DA 70mm F2.4 Limited

SPECYFIKACJA FILTRA:

Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego
NANO-X MRC - Nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne
Nie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralny
Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 3,3mm
Tytanowa powłoka
Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS
Solidne pudełko ochronne na filtr w zestawie

Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach
Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń

W zestawie:

1x filtr
1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra

Przykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC

Uwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.