Filtr ultrafioletowy UV NANO-X MRC
Ultra-Low Reflection
Rozmiar filtra: 55 mm
FILTR NAJWYŻSZEJ JAKOŚCI
DEDYKOWANY DLA PROFESJONALISTÓW
FILTR Z INNOWACYJNYMI NANO-POWŁOKAMI
- Bardzo niski współczynnik odbicia 0,1%, eliminuje 99,9% spolaryzowanego światła i ma bardzo wysoką przepuszczalność
- Nowa technologia powlekania tytanem (powłoka tytanowa) sprawnie eliminuje ewentualne zażółcenie obrazu
- Filtr zapobiega odblaskom i podświetleniom oraz zapewnia nieskazitelną ostrość obrazu
- Ultra HD - wysoka rozdzielczość optyczna użytego szkła
- 28 Nano-powłok antyrefleksyjnych i ochronnych
- Super niski profil typu SLIM (jedyne 3,3mm grubości)
- Pierścień wykonany z aluminium czernionego galwanicznie
- W zestawie solidne opakowanie do przechowywania filtra
Produkt firmy: K&F CONCEPT - bezsporny lider jakości w produkcji filtrów fotograficznych
MODEL: KF01.2462 / 55 mm NANO X UV Ultra Low Reflection
Firma K&F CONCEPT przedstawia znakomitej jakości, profesjonalne filtry UV. Są to filtry z najwyższej półki, mało jakie filtry dorównują im jakością wykonania i stopniem zaawansowania.
Filtr posiada aż kilkadziesiąt nano-powłok nałożonych warstwowo na szło optyczne.
Filtr ultrafioletowy - UV absorbuje promieniowanie ultrafioletowe, odcinając promieniowanie, które w największym natężeniu występuje w warunkach, gdzie powietrze jest wyjątkowo przejrzyste (szczególnie w górach i nad morzem), a które na zdjęciu wywoduje efekt zamglenia.
Filtr UV NANO-X MRC nie tylko poprawia jakość zdjęć ale jest również doskonałym zabezpieczeniem dla obiektywu przed wszelkiego rodzaju pyłkami, tłuszczami, kurzem oraz uszkodzeniami mechanicznymi.
Cechy filtru K&F UV NANO-X MRC:
- Wyprodukowany ze szkła optycznego najwyższej jakości, dzięki temu transmisja światła jest dużo wyższa i wynosi ponad 99,9%
- Filtr posiada specjalne nano-powłoki zapewniające znaczącą redukcję odblasków i poprawę wykonywanych zdjęć.
- Filtr pokryto również powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Powłoki zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń.
- Doskonały stosunek jakości do ceny.
Filtr UV NANO-X MRC jest dedykowany do wszystkich aparatów i kamer ze średnicą obiektywu 55 mm.
Filtr dedykowany jest m.in. do następujących aparatów:
- NIKON D5500 / D5300 / D5200 / D3400 / D3300 / D3200 z obiektywami: Nikon / Nikkor AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G lub Nikon / Nikkor AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G VR
Filtr pasuje m.in do aparatów posiadających następujące modele obiektywów:
Nikon:
- NIKKOR AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G
- NIKKOR AF-P DX 18-55 mm f/3.5-5.6G VR
- NIKKOR VR 10?100 mm f/4,0?5,6
Sony:
- 18-70mm F3.5-5.6
- DT 18-55mm F3.5-5.6 SAM
- SAL-1855-2
- SAL-1855
- SAL-35F14G
- SAL-35F18
- SAL-50F14
- SAL-50M28
- SAL-85F28
- SAL-75300
- SAL-55200-2
- SAL-100M28
Tamron:
- AF 60mm F/2 Di II LD (IF) Macro 1:1
- AF 90mm SP F/2.8 Di Makro
Sigma:
- 50-200 F4-5.6 DC OS HSM
- 50 F2.8 EX DG MACRO
SPECYFIKACJA FILTRA:
- Wykonany z najwyższej jakości, japońskiego szkła optycznego
- NANO-X MRC - Nano-powłoki antyrefleksyjne i ochronne
- Nie zmienia kolorystyki kadru - jest całkowicie neutralny
- Super cienka i lekka, aluminiowa ramka typu SLIM o grubości jedyne 3,3mm
- Tytanowa powłoka
- Brak negatywnego wpływu na pracę układu AUTOFOCUS
- Solidne pudełko ochronne na filtr w zestawie
- Filtr pokryto powłokami, które cechuje wysoka odporność na zarysowania i uszkodzenia mechaniczne. Stanową one doskonałe zabezpieczenie filtra nawet w najtrudniejszych warunkach
- Filtr posiada powłoki, które zdecydowanie ułatwiają czyszczenie filtrów oraz zapobiegają nadmiernemu przyciąganiu kurzu, pyłków i innego rodzaju zanieczyszczeń
W zestawie:
- 1x filtr
- 1x solidne, sztywne opakowanie zapobiegające zarysowaniom, uszkodzeniom oraz ułatwiające transport filtra
Przykładowe zastosowanie filtru K&F CONCEPT NANO-X MRC
Uwaga! Aparaty, obiektywy, statywy i inne akcesoria dodatkowe przedstawione na zdjęciach pełnią jedynie rolę podglądową i nie są przedmiotem sprzedaży.